3月23至26日，由我校与武汉理工大学联合主办的第三届石墨烯和C₃N₄基光催化材料学术研讨会（3^rdInternational Workshop on Graphene and C₃N₄-Based Photocatalysts,简称IWGCP3）在武汉成功召开。来自意大利、澳大利亚、希腊、波兰、捷克、日本、韩国、马来西亚和墨西哥等13个国家和地区的200多位专家学者齐聚一堂，共同探讨光催化材料领域的最新进展。

本次会议以石墨烯、C₃N₄和2D层状光催化材料为主题，通过56场学术报告探讨石墨烯和C₃N₄基光催化材料的最新技术、理论研究进展、关键科学问题和未来研究方向。研讨主题包括石墨烯基复合光催化材料、C₃N₄基光催化材料、二维层状光催化材料、S型异质结光催化材料、光催化材料表面修饰、光催化材料第一性原理计算、光催化分解水产氢和氧、光催化还原CO₂生成太阳能燃料、环境光催化材料及其应用、染料敏化和钙钛矿太阳能电池、光催化和光电催化表面科学以及其它的光催化材料等。

我校作为本次学术会议的联合主办单位，派出了赫荣安、张向超、吴朝辉、杨璐、方志薇、许第发及其他青年博士研究生共10人的团队参与会务组织，并与与会专家学者们开展了广泛的学术交流和讨论。本次会议还评选出10份优秀墙报，我校联合培养的博士研究生张淑敏获此殊荣。

武汉理工大学是我校"环境与能源光催化"湖南省"2011协同创新中心"的重要协作单位之一。我校与武汉理工大学联合主办本次学术会议，是两校切实开展协同创新中心建设任务的具体体现，有利于拓展我校师生的学术视野，提升我校在光催化研究领域的国际影响力，对持续推进我校的人才培养、学科建设和科学研究具有重要意义。

我校团队参加IWGCP3国际学术会议合影

大会现场